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新型电子薄膜材料(第二版)
作者:陈光华,邓金祥,等
出版社:化学工业出版社
出版日期:2012年4月
市场价: 78 元
会员价: 78元
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图书介绍:
  能源、材料、信息科学是新技术革命的先导和支柱。作为特殊形态材料的薄膜,已成为微电子学、光电子学、磁电子学、刀具超硬化、传感器、太阳能利用等新兴学科的材料基础,并已涉及电子、计算机、磁记录、信息、传感器、能源、机械、光学、航空、航天、核工业等各个部门。本书内容既介绍各类固体薄膜的研究和发展情况,也包括国内学者和著者的研究成果,反映了当前学科的先进水平。 
  本书第二版基本上保持了《新型电子薄膜材料》第一版的原貌。与第一版相比,增加了第ⅢA~ⅤA族化合物太阳能电池、聚光太阳能电池和有机薄膜太阳能电池,反映了有关薄膜太阳能电池材料和技术研究的最新成果。另外,还对碳基薄膜材料,包括富勒烯薄膜、碳纳米管薄膜和石墨烯薄膜等内容进行了重点介绍。 
  本书既可作为相关专业高年级大学生及研究生的教学参考书,也可供广大从事薄膜科学与技术的工程技术人员、科技工作者参考。
其他说明:
第1章绪论1 
1.1薄膜的定义及特性1 
1.1.1薄膜的定义1 
1.1.2薄膜材料的分类2 
1.1.3薄膜材料的特殊性4 
1.1.4薄膜结构的缺陷7 
1.1.5薄膜的光学特性8 
1.2薄膜材料研究现状11 
1.3新型薄膜材料发展前景12 
参考文献14 

第2章硅基半导体薄膜材料15 
2.1概述15 
2.2硅基非晶态半导体薄膜15 
2.2.1非晶半导体薄膜材料的结构特点15 
2.2.2非晶态半导体薄膜材料的制备方法16 
2.2.3非晶态半导体薄膜材料的能带模型21 
2.2.4非晶态半导体薄膜材料的电学特性24 
2.2.5非晶态半导体的光学性质32 
2.2.6非晶半导体薄膜材料在光电器件方面的独特性能36 
2.2.7非晶半导体薄膜材料质量的研究近况36 
2.3多晶硅和微晶硅薄膜37 
2.3.1 μc.Si∶H薄膜38 
2.3.2多晶Si薄膜41 
2.4薄膜晶体管与大面积液晶显示器46 
2.4.1a.Si∶H TFT的结构、制备和工艺47 
2.4.2a.Si∶H TFT的工作特性49 
2.4.3新型μc.Si∶H /a.Si∶H双有源层结构的薄膜晶体管49 
2.4.4a.Si∶H TFT在有源矩阵中的应用51 
参考文献54 

第3章金刚石薄膜及相关材料56 
3.1概述56 
3.2金刚石薄膜56 
3.2.1金刚石薄膜的结构57 
3.2.2金刚石薄膜的优异特性58 
3.2.3金刚石薄膜的制备方法61 
3.2.4强碳化物形成元素衬底上金刚石薄膜的生长特性及过渡层的研究66 
3.2.5织构金刚石薄膜的制备69 
3.3类金刚石膜(DLC)71 
3.3.1类金刚石薄膜的相结构71 
3.3.2类金刚石膜的制备方法71 
3.3.3类金刚石薄膜直流电导特性的研究73 
3.3.4类金刚石膜的光学特性76 
3.3.5类金刚石薄膜的力学特性79 
3.3.6类金刚石膜的其他特性79 
3.3.7类金刚石膜的应用80 
3.4立方氮化硼薄膜81 
3.4.1氮化硼的四种异构体81 
3.4.2立方氮化硼的性质和应用前景83 
3.4.3立方氮化硼薄膜的制备方法84 
3.4.4 氮化硼薄膜的n型掺杂87 
3.4.5氮化硼薄膜的p型掺杂90 
3.4.6立方氮化硼薄膜的研究现状及面临的问题93 
3.5β.C3N4薄膜94 
3.5.1β.CNx薄膜的原子结构94 
3.5.2β.C3N4薄膜的制备与特性表征96 
3.5.3β.C3N4的应用前景97 
3.6BCN薄膜98 
3.6.1BCN薄膜的结构98 
3.6.2BCN薄膜的制备99 
3.6.3BCN薄膜的电学性质100 
3.6.4BCN薄膜的光学带隙100 
3.7其他硬质薄膜101 
3.7.1氮化物、磷化物、硼化物及氧化物101 
3.7.2硬质薄膜材料的物性102 
3.7.3硬质复合薄膜材料104 
3.7.4固体润滑膜105 
3.8宽带隙薄膜材料场电子发射研究的现状和问题106 
3.8.1概述106 
3.8.2金刚石薄膜的场电子发射107 
3.8.3类金刚石(DLC)薄膜的场发射109 
3.8.4其他宽带隙材料薄膜的场发射110 
3.8.5存在的问题110 
参考文献111 

第4章碳基薄膜材料113 
4.1概述113 
4.2碳的价键结构113 
4.2.1 碳的价键结构113 
4.2.2碳的同素异构体114 
4.3富勒烯薄膜材料116 
4.3.1碳富勒烯的结构116 
4.3.2 C60富勒烯薄膜的表征119 
4.3.3 C60富勒烯薄膜的制备121 
4.3.4富勒烯的性质122 
4.3.5 C60富勒烯薄膜在有机电致发光器件中的应用129 
4.3.6 C60单电子管129 
4.4碳纳米管薄膜材料132 
4.4.1碳纳米管的结构132 
4.4.2碳纳米管的性质132 
4.4.3碳纳米管薄膜的制备方法134 
4.4.4取向生长碳纳米管薄膜的制备及场致电子发射特性136 
4.4.5单壁碳纳米管三极管140 
4.5石墨烯薄膜材料142 
4.5.1石墨烯的结构和性质142 
4.5.2石墨烯薄膜的制备与表征方法145 
4.5.3氧化石墨还原法制备石墨烯薄膜146 
4.5.4化学气相沉积法制备石墨烯149 
4.5.5功能化石墨烯的应用153 
4.5.6石墨烯场效应管156 
参考文献156 

第5章硫系及其他多元化合物薄膜158 
5.1概述158 
5.2硫系化合物半导体158 
5.2.1硫系化合物半导体材料的形成能力158 
5.2.2硫系化合物材料的制备方法159 
5.2.3硫系化合物掺杂的特点161 
5.2.4硫系非晶态半导体的电学性质161 
5.2.5硫系半导体的光致结构变化效应163 
5.3薄膜静电成像——复印鼓165 
5.3.1静电成像原理165 
5.3.2静电成像的基本过程166 
5.3.3薄膜静电成像的材料167 
5.3.4复印机168 
5.4纳米Sn太阳能吸热膜168 
5.4.1太阳能吸热膜的基本原理168 
5.4.2纳米Sn吸热膜的制备方法和特性169 
参考文献170 

第6章薄膜太阳能电池材料171 
6.1概述171 
6.2a.Si∶H太阳能电池172 
6.2.1单晶太阳能电池与非晶硅太阳能电池的优缺点172 
6.2.2a.Si∶H太阳能电池的工作原理和参数173 
6.2.3a.Si∶H太阳能电池的结构和性能175 
6.2.4a.Si∶H太阳能电池的制造179 
6.2.5提高a.Si∶H太阳能电池效率和降低成本的一些措施180 
6.2.6a.Si∶H薄膜太阳能电池的研究进展184 
6.2.7其他硅基薄膜太阳能电池185 
6.3第ⅢA~ⅤA族化合物太阳能电池186 
6.3.1第ⅢA~ⅤA族化合物材料186 
6.3.2第ⅢA~ⅤA族化合物太阳能电池187 
6.3.3第ⅢA~ⅤA族化合物太阳能电池的发展趋势189 
6.4聚光太阳能电池190 
6.4.1聚光太阳能电池的优势190 
6.4.2多结太阳能电池在聚光光伏中的应用191 
6.4.3聚光光伏系统的发展192 
6.5CdTe太阳能电池192 
6.5.1多晶薄膜CdTe太阳能电池的出现与发展192 
6.5.2大面积多晶薄膜CdTe太阳能电池193 
6.5.3CdTe太阳能电池的研究进展193 
6.6铜铟硒(CIS)及铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池194 
6.6.1CIS和CIGS薄膜太阳能电池194 
6.6.2制备CIGS薄膜过程中的掺镓技术194 
6.6.3CIGS薄膜太阳能电池的研究进展195 
6.7有机薄膜太阳能电池197 
6.7.1有机小分子太阳能电池和聚合物太阳能电池197 
6.7.2染料敏化太阳能电池201 
6.7.3有机太阳能电池能量转化效率(ηp)的研究206 
6.7.4有机太阳能电池稳定性的研究209 
参考文献209 

第7章纳米薄膜材料与可见光发射212 
7.1概述212 
7.1.1半导体纳米材料的特殊性质及研究意义212 
7.1.2半导体量子点213 
7.2发光机理及Si发光面临的问题213 
7.2.1发光机理及发光类型213 
7.2.2可见发光材料215 
7.2.3人眼的视感度与LED的视感度215 
7.2.4Si发光面临的问题215 
7.3Ge/Si超晶格和量子阱结构材料216 
7.3.1Ge/Si超晶格217 
7.3.2Si/Si1-xGex超晶格217 
7.3.3Si/SiO2超晶格217 
7.4Ge/SiO2、Si/SiO2纳米膜发光217 
7.4.1Ge纳米发光膜的制备218 
7.4.2Ge纳米晶的发光特性219 
7.4.3Ge纳米晶发光机理220 
7.4.4硅纳米晶激光器初现端倪220 
7.5多孔硅发光221 
7.5.1多孔硅的结构222 
7.5.2多孔硅的光学性质223 
7.5.3多孔硅的形成机理224 
7.5.4多孔硅的制作及其钝化225 
7.6氮化镓基薄膜材料发光226 
7.6.1氮化镓基材料的特点及其应用226 
7.6.2氮化镓基材料的制备228 
7.6.3氮化镓基器件230 
7.7薄膜发光显示器(第ⅡA~ⅥA族化合物)232 
7.7.1薄膜电致发光显示器件的制备方法及结构233 
7.7.2薄膜电致发光的物理过程233 
7.7.3薄膜电致发光材料235 
7.7.4薄膜电致发光器件236 
7.8硅中掺铒的发光特性及机理237 
7.8.1铒在Si中的原子构型237 
7.8.2铒在Si中的电子态237 
7.8.3掺铒硅的发光机理239 
7.8.4掺铒硅发光管与Si集成电路的集成240 
7.9ZnO量子点——半导体激光器新材料241 
7.9.1ZnSe基激光器存在的问题241 
7.9.2ZnO材料的基本特性242 
7.9.3ZnO的外延生长242 
7.9.4ZnO量子点的光学特性243 
参考文献244 

第8章介质薄膜材料246 
8.1概述246 
8.2电介质薄膜及应用246 
8.2.1氧化物电介质薄膜的制备及应用247 
8.2.2低介电常数含氟氧化硅薄膜249 
8.3铁电薄膜及应用251 
8.3.1铁电薄膜的结构制备和特性251 
8.3.2铁电薄膜的应用255 
8.4压电薄膜及应用256 
8.4.1压电薄膜的制造技术258 
8.4.2压电薄膜的压电性能260 
8.4.3压电薄膜的应用262 
参考文献263 
第9章高温超导薄膜材料264 
9.1概述264 
9.2高温超导薄膜的制备266 
9.2.1对制膜技术的要求266 
9.2.2高温超导薄膜的制备方法266 
9.2.3阻挡层技术268 
9.3高温超导薄膜材料的结构和性质269 
9.3.1高温超导薄膜材料的结构269 
9.3.2高温超导薄膜材料的性质271 
9.4高温超导薄膜材料的应用272 
9.4.1概述272 
9.4.2高温超导约瑟夫森结技术及其应用273 
9.4.3高温超导探测器的研究进展与应用前景277 
9.4.4高温超导薄膜无源器件及应用280 
参考文献281 

第10章巨磁阻薄膜材料282 
10.1概述282 
10.2磁性多层膜的巨磁阻效应283 
10.2.1GMR效应的发现和简单原理283 
10.2.2GMR及层间耦合的振荡现象283 
10.2.3GMR与多层膜结构的依赖关系284 
10.2.4GMR材料的应用284 
10.3颗粒膜的巨磁阻效应284 
10.3.1颗粒膜及其制备285 
10.3.2颗粒膜的巨磁电阻效应285 
10.3.3间断膜和混合膜的巨磁电阻效应286 
10.4自旋阀多层膜的巨磁阻效应287 
10.4.1自旋阀多层结构和巨磁阻效应287 
10.4.2磁控溅射法制备自旋阀多层膜288 
10.5掺杂稀土锰氧化物的巨磁电阻效应289 
10.5.1掺杂稀土锰氧化物的巨磁电阻效应289 
10.5.2掺杂稀土锰氧化物材料的结构和早期的研究结果291 
10.5.3锰氧化物的巨磁电阻机制的研究291 
参考文献292 

第11章其他薄膜材料293 
11.1概述293 
11.2超晶格和量子阱薄膜材料293 
11.2.1超晶格概念的提出、发展及其意义293 
11.2.2不同类型的半导体超晶格材料及其主要特征294 
11.2.3半导体超晶格材料的生长技术298 
11.2.4超晶格微结构材料的主要性能及应用299 
11.3有机电致发光薄膜300 
11.3.1有机电致发光的特点300 
11.3.2器件的结构和制备301 
11.3.3有机电致发光膜材料302 
11.3.4蓝色有机电致发光303 
11.4透明导电膜及其在电子工业方面的应用304 
11.4.1透明导电膜的种类与特性304 
11.4.2透明导电膜的制备方法304 
11.4.3透明导电膜的用途305 
11.5窄带隙红外光导薄膜材料(HgCdTe)306 
11.5.1红外探测器与HgCdTe306 
11.5.2HgCdTe薄膜材料的制备方法和特性306 
11.6变色薄膜材料308 
11.6.1电致变色膜308 
11.6.2光学变色膜309 
11.6.3热致变色膜310 
11.7防伪技术和光学防伪膜311 
11.7.1防伪技术的现状与薄膜防伪技术的发展311 
11.7.2光学防伪膜的基本原理312 
11.7.3整膜防伪膜的设计与工艺313 
11.7.4碎膜防伪技术要点313 
11.7.5防伪膜防伪效果的加强313 
参考文献314 

第12章薄膜制备的新技术和检测手段315 
12.1概述315 
12.2溅射法315 
12.2.1基本原理316 
12.2.2射频溅射317 
12.2.3磁控溅射318 
12.3微波电子回旋共振化学气相沉积法319 
12.3.1原理319 
12.3.2特点320 
12.3.3系统320 
12.4分子束外延法321 
12.4.1基本概念321 
12.4.2生长原理及方法321 
12.4.3生长特点322 
12.5金属有机化学气相沉积法323 
12.5.1原理323 
12.5.2制膜系统323 
12.5.3特点325 
12.6直流电弧等离子体喷射化学气相淀积法325 
12.7溶胶.凝胶法326 
12.7.1概述326 
12.7.2溶胶.凝胶方法制备薄膜工艺326 
12.8电沉积法327 
12.8.1概述327 
12.8.2特点328 
12.9脉冲激光沉积法328 
12.9.1基本原理及物理过程328 
12.9.2特点330 
12.10触媒化学气相沉积法330 
12.11薄膜检测手段331 
12.11.1薄膜厚度测量331 
12.11.2扫描电子显微镜分析332 
12.11.3原子力显微镜分析334 
12.11.4X射线衍射(XRD)分析335 
12.11.5傅里叶变换红外光谱分析335 
12.11.6激光拉曼光谱(Raman)分析336 
12.11.7X射线光电子能谱分析337 
12.11.8俄歇电子能谱分析338 
12.11.9二次离子质谱分析339 
12.11.10卢瑟福背散射分析339 
参考文献340
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